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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
詳情介紹：
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
MA-6131ML，G3～G5基板用，直立型近接曝光裝置，直，DNK大日本科研DSLY0505
通過掩膜與基板的垂直放置,來減少翹曲的直立型近接曝光機(jī)。對應(yīng)水平搬送型前后處理裝置的聯(lián)機(jī)。
特長：
直立配置掩膜臺/基板臺。不需補(bǔ)正由掩膜/掩膜臺/基板臺的自身重量而造成的彎曲變形,構(gòu)造簡單，安定性高。
采用新型光學(xué)系統(tǒng),使影響圖形轉(zhuǎn)印精度的傾斜角降低至過去的一半以下(與本公司裝置相比),可實現(xiàn)更高精度的圖形轉(zhuǎn)印。
完全分離本體與光源部。光源的熱量傳遞不到本體,改善了本體部的熱量分布水準(zhǔn)。
為了防止因掩膜及玻璃基板的溫度差造成的伸縮變形,可選擇基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)。(選購項)
*大基板尺寸為1,200mm×1,400mm。通過獨(dú)自的光學(xué)系統(tǒng)實現(xiàn)了均勻的一次性曝光。
能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫
| MA-6701ML | MA-6801ML | MA-6131ML | |||
| 基板尺寸 | 550 x 650mm | 650 x 750mm | 1100 x 1300mm | ||
| 掩膜尺寸 | 620 x 720 x t8.0mm | 700 x 800 x t8.0mm | 1200 x 1400 x t4.8mm | ||
| 對位 | 非接觸預(yù)對位～自動對位 | ||||
| 間隙 | 擁有傳感性能 | ||||
| 光源 | 超高壓水銀燈 ：8kW | 超高壓水銀燈 ：8kW | 超高壓水銀燈 ：18kW | ||
| 外觀尺寸及重量 | 本體尺寸 | W3500 x D2720 x H2700 mm | W4150 x D3200 x H2900 mm | W11300 x D7060 x H3350 mm | |
| 本體重量 | 3500kg | 3800kg | 12700kg | ||
| 光源重量 | 800kg | 1150kg | 4200kg | ||
| 選購項 | 掩膜冷卻、基板臺溫度調(diào)節(jié)、溫控機(jī)房、特殊對位照明 | ||||
| 用途 | 觸摸屏、彩色濾光片、有機(jī)EL、C－STN、電子紙等 | ||||
※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽
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